Магнитроновое оборудование для распыления вакуумного покрытия

Вид оплаты:T/T

Инкотермс:FOB,CFR,CIF,EXW

Количество минимального заказа:1 Set/Sets

транспорт:Ocean

Порт:Dalian

Атрибуты продукта
Возможности поставки ...
Упаковка и доставка

Атрибуты продукта

Модель: GD-X200-8

марка: GTVAC

Возможности поставки ...

Подробности Упаковки: деревянная коробка

транспорт: Ocean

Место происхождения: Китай

Сертификаты : iso9001

Код ТН ВЭД: 8514200090

Порт: Dalian

Вид оплаты: T/T

Инкотермс: FOB,CFR,CIF,EXW

Упаковка и доставка

Продажа единиц жилья:

Set/Sets

Тип упаковки:

деревянная коробка

Пример с картинкой:

Основываясь на принципе PVD (физическое осаждение из паров), технология распыления вакуумного магнитрона используется для отложения одного или нескольких наномасштабных материалов на подложку. Толщину пленки можно точно контролировать, а слой пленки равномерный и последовательный, что дает субстрат новые функции. Процесс производства является зеленым и экологически чистым, и широко используется при изготовлении оптических пленок, пленок с низким уровнем E, пленок батареи, фотоэлектрических пленок, пленок ITO и технологии проникновения с постоянным магнитным материалом. Типы оборудования разделены на две категории: одноразовые машины и непрерывные линии. Непрерывная линия принимает модульную структуру и может быть гибко расположена в соответствии с различными требованиями процесса. Катод может быть оборудован вращающейся целью или плоской целью; Реактивное покрытие также может быть достигнуто в соответствии с требованиями процесса.

Ключевые функции

· Камера с высокой вакуумой-уровни вакуума до 10⁻⁴-10⁻⁶ PA для среды ультрачистых покрытий.

· Технология распыления магнетрона - повышенная эффективность осаждения и превосходная адгезия покрытия.

· Многоцелевые возможности-поддерживает несколько материалов для композитных или слоистых покрытий.

· Точный контроль процесса-интерфейс PLC + HMI с мониторингом в режиме реального времени и программируемыми рецептами.

· Единое осаждение пленки-оптимизированные системы расстояния и вращения целевого расстояния.

Технические преимущества

· Создает покрытия с высокой плотностью, гладкой поверхностью и отличной прочностью склеивания.

· Подходит для металлов, керамики и диэлектрических покрытий.

· Способен к осаждению большой области с равномерной толщиной.

· Снижение нагрева субстрата для чувствительных к температуре материалов.

Система работает путем бомбардировки целевого материала с ионами в контролируемой плазме, вызывая выбросы атомов и осаждение на поверхность заготовки. Среда с высокой вакуймой обеспечивает чистые, без дефектов покрытия с превосходной однородностью и повторяемостью, в то время как технология магнетрона улучшает скорость осаждения и энергоэффективность.

Приложения

· Оптические покрытия-анти-рефлексивные, зеркальные и интерференционные фильтры.

· Электроника - проводящие слои, полупроводниковые пленки и защитные покрытия.

· Солнечная энергия - прозрачные проводящие оксидные (TCO) слои для солнечных батарей.

· Декоративная отделка-устойчивые к износу и коррозионные цветные покрытия.

· Инструменты и инженерия - твердые покрытия для режущих инструментов, форм и деталей машины.

Оборудование для вакуумного покрытия магнетрона обеспечивает точность, гибкость и высокую эффективность производства, что делает его предпочтительным выбором для производителей, ищущих надежные и масштабируемые тонкопленочные решения.